近年來，在半導(dǎo)體工業(yè)中，對臭氧的應(yīng)用越來越多。臭氧被廣泛運(yùn)用在晶圓清洗和電子元件清洗中。德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器MEGAGEN系列COM-VD在半導(dǎo)體加工等方面發(fā)揮重大作用。
臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品優(yōu)勢：
ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-VD系列是專門為獲得高濃度臭氧而設(shè)計的。在低氧氣消耗量的氣相中，臭氧最高濃度可達(dá)到 300g O3/Nm3。
MEGAGEN系列臭氧發(fā)生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應(yīng)器配合使用，其質(zhì)量轉(zhuǎn)移效果非常好，可以將大量的臭氧轉(zhuǎn)換成液相，從而達(dá)到強(qiáng)力去除COD的目的。
臭氧發(fā)生器MEGAGEN COM-VD系列數(shù)據(jù)表
臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品特點：
最高臭氧濃度
低耗氧量
低功耗
相關(guān)反應(yīng)性高
低AOPR(高級氧化工藝)能耗
臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品應(yīng)用：
+ AOP(高級氧化技術(shù))污水處理、去除COD
+ HOXON®廢水系統(tǒng), API廢水
+ 半導(dǎo)體加工（如晶圓清洗，電子元件臭氧清洗）
+ 除臭
+ 研發(fā)
+ 藥品生產(chǎn)
臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體晶圓清洗上的應(yīng)用
晶圓清洗是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)線上最重要、最嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ば蛑?，在很多的清洗工序中，只要有一道工序達(dá)不到要求，就會導(dǎo)致征辟的芯片的報廢和流程不順暢，傳統(tǒng)的RCA清洗法需要大量的化學(xué)試劑，帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題，而臭氧是一種具有較強(qiáng)氧化性的氣體，把它溶解在超純水中，噴灑在晶圓表面，可以將表面的有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有機(jī)物，同時還會在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器非常適合運(yùn)用在半導(dǎo)體特別是晶圓清洗上。
ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器技術(shù)參數(shù)
| 類型 | 單位 | COM-VD-08 | COM-VD-16 | COM-VD-24 |
| 臭氧容量 | g O3/h | 60 | 120 | 180 |
| 最大臭氧濃度 | g O3/Nm3 | 300 | 300 | 300 |
| 最小臭氧濃度 | g O3/Nm3 | 150 | 150 | 150 |
| 臭氧氣體壓力輸出 | bar (g) | <2.9 | ||
| 最小氧氣消耗量 | Nm3/h | 0,2 | 0,4 | 0,6 |
| 電功率 | kW | 0,6 | 1,2 | 1,8 |
| 電源 | VAC /Hz | 230/50-60/1 phase | ||
| 能效 | kWh/kg O3 | 10 | 10 | 10 |
AOPR評級, 動力 | kg O3/(bar *h* m3H2O） | 10 ... 500 | ||
| 冷卻液，目標(biāo)溫度 | m3 /h283 K | 0,1 | 0,2 | 0,3 |
| 外形尺寸 | mm | 高280*寬562*長603 mm | ||
| 標(biāo)準(zhǔn)重量 | kg | 41 | 50 | 62 |
翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理，了解更多關(guān)于德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器，歡迎致電【400-6808-138】咨詢。